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1965年8月

同社は、インコ社、志村化工、三井物産の3社によって設立された 資本金は5億円

March 1967

インコ社から技術導入した「流動焙焼法」により、カナダ産硫化ニッケルマットを原料とする「ニッケル・オキサイド・シンター」製造開始75」の製

1970年7月

住友金属鉱山株式会社による資本参加

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1973年4月

インドネシア共和国スラウェシのソロアコ地域でラテライト・ニッケル鉱床を開発することを目的としたインコ社のソロアコプロジェクトへ参加

1975年12月

住友商事、日商岩井による資本参加

1976年12月

資本金を7億5000万円に増額

1978年5月

インドネシア産ソロアコ・硫化ニッケル・マットを原料とする「ニッケル・オキサイド・シンター75」の操業開始

1982年1月

トーニメット生産開始

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1982年10月

大同特殊鋼株式会社と日本興業銀行による資本参加

1983年10月

トーニメット製造設備1号炉完成、操業開始

1984年9月

ブリケット製造施設を移転

1984年12月

志村加工株式会社が保有する全株式を三社に譲渡し、日本冶金工業株式会社が資本参加

1985年8月

トーニメット製造設備2号炉完成、操業開始

1985年12月

トーニメット97の生産開始

1987年8月

No.2接触式硫酸製造設備完成、操業開始

1987年9月

流動焙焼炉第2号が完成し、運転を開始

1990年2月

トーニメット製造施設第3号炉が完成し、操業を開始

1992年7月

松阪工場新事務所完成

1993年3月

流動焙焼炉第3号炉ならびにNo.3接触式硫酸製造設備完成

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1993年6月

流動焙焼炉第1号炉ならびにNo.1接触式硫酸製造設備操業停止

1993年7月

流動焙焼炉第3号炉ならびにNo.3接触式硫酸製造設備操業開始

1995年3月

資本金を10億円に増資

1996年1月

従業員持株会が確立される

1997年1月

流動焙焼炉第3号炉ならびにNo.3接触式硫酸製造設備の能力増強工事完成

1999年3月

インコ・リミテッド日本支社から営業権譲受、第三者割当て増資、資本金を20億円に増額、インコ社持ち株比率66.7%

1999年4月

4月1日付で「インコ東京ニツケル株式会社」に社名を変更

2002年3月

本社を東京都中央区日本橋人形町に移転

2002年10月

ISO14001認証取得

2003年5月

ISO9001認証取得

2004年11月

新型ブリケットマシン導入

2005年5月

インコ社持ち株比率が66.7%から67.1%に変更

2007年1月

インコ社の社名がCVRD Inco Limitedに変更

2007年11月

CVRDインコ社の社名が「ヴァーレ・インコ社」に変更

2008年3月

C3月10日付で「ヴァーレ・インコ・ジャパン株式会社」に社名変更、港区愛宕二丁目に本社移転

2009年4月

従業員持株会が解散、ヴァーレ・インコ社がその株式10,000株を取得、持株比率が67.5%となる

2009年10月

大同特殊鋼㈱から株式200,000株を取得し、ヴァーレ・インコ社の持株比率 が76.1%となる

2010年9月

9月1日付けで「ヴァーレ・ジャパン株式会社」に社名を変更

2011年2月

三井物産㈱より株式160,000株、住友商事㈱より株式60,000株、双日㈱より40,000株を取得し、ヴァーレ・カナダ社(旧ヴァーレ・インコ社)の持株比率が87.2%となる

2011年10月

アジアン・テクニカル・センター(ATC)を松阪工場に設置

2016年1月

本社を三重県松阪市に移転し、東京事務所を閉鎖