沿革

平成 25 年 5 月 東京本社事務所ISO9001取得

平成 25 年 5 月

東京本社事務所ISO9001取得

昭和40年 8月

「インコ社」 (カナダ)、 志村化工(株)ならびに三井物産(株)の3社によって資本金5億円をもって会社設立

昭和42年 3月

インコ社から技術導入した「流動焙焼法」により、カナダ産硫化ニッケルマットを原料とする「ニッケル・オキサイド・シンター75」の製造開始

昭和45年 7月

住友金属鉱山(株)資本参加

昭和48年 4月

インドネシア共和国スラウエシ島ソロアコ地区のラテライト・ニッケル鉱床開発を目的とするインコ社ソロアコ・プロジェクトに参加

昭和50年12月

住友商事(株)、日商岩井(株)、資本参加

昭和51年12月

資本金を7億5千万円に増額

昭和53年 5月

インドネシア産ソロアコ・硫化ニッケル・マットを原料とする「ニッケル・オキサイド・シンター75」の操業開始

昭和57年 1月

トーニメットの生産開始

昭和57年 7月

ユーティリティー・ニッケルの生産開始

昭和57年10月

大同特殊鋼(株)、(株)日本興業銀行資本参加

昭和58年10月

トーニメット製造設備1号炉完成、操業開始

昭和59年 9月

ブリケット製造設備移設

昭和59年12月

志村化工(株)持株全額3社に移動、日本冶金工業(株)資本参加

昭和60年 8月

トーニメット製造設備2号炉完成、操業開始

昭和60年12月

トーニメット97の生産開始

昭和62年 8月

No.2接触式硫酸製造設備完成、操業開始

昭和62年 9月

流動焙焼炉第2号炉完成、操業開始

平成 2年 2月

トーニメット製造設備3号炉完成、操業開始

平成 4年 7月

松阪工場新事務所完成

平成 5年 3月

流動焙焼炉第3号炉ならびにNo.3接触式硫酸製造設備完成

平成 5年 6月

流動焙焼炉第1号炉ならびにNo.1接触式硫酸製造設備操業停止

平成 5年 7月

流動焙焼炉第3号炉ならびにNo.3接触式硫酸製造設備操業開始

平成 7年 3月

資本金を10億円に増額

平成 8年 1月

従業員持株会設立

平成 9年 5月

流動焙焼炉第3号炉ならびにNo.3接触式硫酸製造設備の能力増強工事完成

平成11年 3月

インコ・リミテッド日本支社から営業権譲受、第三者割当て増資 資本金を20億円に増額 インコ社持ち株比率66.7%

平成11年 4月

4月1日付けで「インコ東京ニツケル株式会社」に社名変更

平成14年 3月

中央区日本橋人形町に本社移転

平成14年10月

ISO 14001取得

平成15年 5月

ISO 9001取得

平成16年11月

新型ブリケットマシン導入

平成17年 5月

インコ社持ち株比率66.7%から67.1%に変更

平成19年 1月

インコ社の社名がCVRD Inco Limitedに変更

平成19年11月

CVRDインコ社の社名がVale Inco Limitedに変更

平成20年 3月

3月10日付で「ヴァーレ・インコ・ジャパン株式会社」に社名変更 港区愛宕二丁目に本社移転

平成21年 4月

従業員持株会が解散、Vale Inco Limited がその株式10,000株を取得、持株比率が67.5%となる

平成21年10月

大同特殊鋼(株)から株式200,000株を取得し、Vale Inco Limited の持株比率が76.1%となる

平成22年 9月

9月1日付で「ヴァーレ・ジャパン株式会社」に社名変更

平成23年 2月

三井物産(株)より株式160,000株、住友商事(株)より株式60,000株、双日(株)より株式40,000株を取得、Vale Canada Limited の持株比率が87.2%となる

平成23年 10月

アジアン・テクニカル・センター(ATC)を松阪工場に設置

平成23年 11月

TMT98ブリケット開発用パイロットプラントを導入

平成 25 年 5 月

東京本社事務所ISO9001取得

平成28年1月

本社を三重県松阪市に移転し、東京事務所を閉鎖”